2024 동계 반도체 공정 실무교육과정(심화)

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  • shkim12@daegu.ac.kr
  • 053-850-6702
  • 경북대학교 반도체융합기술연구원
[반도체 공정 실무 교육과정(심화)]
- 반도체 심화 공정이론 및 실습과정
- nMOSFET 소자 대상으로 공정 순서 및 제작 과정에 대한 이해
- 반도체 소자제작에 필요한 기초단위공정 및 종합 공정에 대한 이해도를 기반으로 Gate Process 반도체 소자 제작 과정을 통해 전공 심화 실무적용 능력 배양
- 반도체 공정 장비를 활용한 실습프로그램 제공으로 현장 실무능력 향상

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세부내용

2024 동계 반도체 공정실무교육(심화과정)


□ 교육일시: 2024. 12. 16(월)~20(금), 0900~18:00(1일 8시간, 총 40시간) 

□ 교육장소: 경북대학교 반도체융합기술연구원 

□ 교육내용:  반도체소자제작에 필요한 기초단위공정 및 종합공정에 대한 이해도 기반 Gate Process  반도체 소자 제작 과정을 통해 전공심화 및 실무적용 능력 배양에 대한 이해도를 높이고 각각의 장비를 활용한 실습프로그램 

□ 교육일정(안)

일자

시간

교육내용

세부내용

비고

12.16.

(월)

1일차

09:00~11:00

안전교육

안전교육

11:00~12:00

시청각

반도체 전공정 시청각 교육

12:00~13:00

시설소개

공정실 구성 및 시설 교육

13:00~14:00

점심식사

사업단 제공

14:00~16:00

공정이론

Process Integration

16:00~18:00

Ion implantation

12.17.

(화)

2일차

09:00~11:00

공정이론

Photo 단위공정 이론교육

11:00~13:00

Etch 단위공정 이론교육

13:00~14:00

점심식사

사업단 제공

14:00~16:00

공정이론

Troubleshooting 교육

16:00~17:00

공정실습

Field oxidation 실습

17:00~18:00

S/D Photo(Mask #1) 실습

12.18.

(수)

3일차

09:00~10:30

공정이론

Dielectric 단위공정 이론교육

10:30~11:00

Review

공정실습 Review

11:00~12:00

공정실습

Oxide etch & PR strip 실습

12:00~13:00

N+ Implantation 실습

13:00~14:00

점심식사

사업단 제공

14:00~15:00

공정실습

Anneal 실습

15:00~16:00

Gate define(Mask #2) 실습

16:00~17:00

Gate Ox etch & PR strip 실습

17:00~18:00

Gate Ox growth 실습

18:00~18:30

Summary

공정실습 Summary

12.19.

(목)

4일차

09:00~11:00

공정이론

Metal % Metalization 단위공정 이론교육

11:00~12:00

Review

공정실습 Review

12:00~13:00

점심식사

사업단 제공

13:00~14:00

공정실습

Contact Photo(Mask #3) 실습

14:00~15:00

Contact etch & PR strip 실습

15:00~16:00

AI deposition 실습

16:00~17:00

Gate electrode AI Photo(Mask #4) 실습

17:00~18:00

Summary

공정실습 Summary

12.20.

(금)

5일차

09:00~10:00

공정이론

불량분석 이론교육

10:00~11:00

Electrical test 이론교육

11:00~12:00

평가

시험평가

12:00~13:00

점심식사

사업단 제공

13:00~14:00

공정실습

AI etch & PR strip 실습

14:00~15:00

AI Anneal 실습

15:00~16:00

Electrical test 실습(I-V측정)

16:00~17:00

시청각

반도체 후공정 시청각 교육

17:00~17:30

수료식

총평 및 수료식

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