[반도체 공정 실무 교육과정(심화)]
- 반도체 심화 공정이론 및 실습과정
- nMOSFET 소자 대상으로 공정 순서 및 제작 과정에 대한 이해
- 반도체 소자제작에 필요한 기초단위공정 및 종합 공정에 대한 이해도를 기반으로 Gate Process 반도체 소자 제작 과정을 통해 전공 심화 실무적용 능력 배양
- 반도체 공정 장비를 활용한 실습프로그램 제공으로 현장 실무능력 향상
전체
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학습역량강화 전공역량강화 프로그램
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shkim12@daegu.ac.kr
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053-850-6702
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경북대학교 반도체융합기술연구원
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세부내용
2024 동계 반도체 공정실무교육(심화과정)
□ 교육일시: 2024. 12. 16(월)~20(금), 0900~18:00(1일 8시간, 총 40시간)
□ 교육장소: 경북대학교 반도체융합기술연구원
□ 교육내용: 반도체소자제작에 필요한 기초단위공정 및 종합공정에 대한 이해도 기반 Gate Process 반도체 소자 제작 과정을 통해 전공심화 및 실무적용 능력 배양에 대한 이해도를 높이고 각각의 장비를 활용한 실습프로그램
□ 교육일정(안)
일자 | 시간 | 교육내용 | 세부내용 | 비고 |
12.16. (월) 1일차 | 09:00~11:00 | 안전교육 | 안전교육 |
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11:00~12:00 | 시청각 | 반도체 전공정 시청각 교육 |
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12:00~13:00 | 시설소개 | 공정실 구성 및 시설 교육 |
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13:00~14:00 | 점심식사 | 사업단 제공 | ||
14:00~16:00 | 공정이론 | Process Integration |
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16:00~18:00 | Ion implantation |
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12.17. (화) 2일차 | 09:00~11:00 | 공정이론 | Photo 단위공정 이론교육 |
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11:00~13:00 | Etch 단위공정 이론교육 |
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13:00~14:00 | 점심식사 | 사업단 제공 | ||
14:00~16:00 | 공정이론 | Troubleshooting 교육 |
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16:00~17:00 | 공정실습 | Field oxidation 실습 |
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17:00~18:00 | S/D Photo(Mask #1) 실습 |
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12.18. (수) 3일차 | 09:00~10:30 | 공정이론 | Dielectric 단위공정 이론교육 |
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10:30~11:00 | Review | 공정실습 Review |
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11:00~12:00 | 공정실습 | Oxide etch & PR strip 실습 |
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12:00~13:00 | N+ Implantation 실습 |
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13:00~14:00 | 점심식사 | 사업단 제공 | ||
14:00~15:00 | 공정실습 | Anneal 실습 |
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15:00~16:00 | Gate define(Mask #2) 실습 |
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16:00~17:00 | Gate Ox etch & PR strip 실습 |
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17:00~18:00 | Gate Ox growth 실습 |
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18:00~18:30 | Summary | 공정실습 Summary |
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12.19. (목) 4일차 | 09:00~11:00 | 공정이론 | Metal % Metalization 단위공정 이론교육 |
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11:00~12:00 | Review | 공정실습 Review |
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12:00~13:00 | 점심식사 | 사업단 제공 | ||
13:00~14:00 | 공정실습 | Contact Photo(Mask #3) 실습 |
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14:00~15:00 | Contact etch & PR strip 실습 |
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15:00~16:00 | AI deposition 실습 |
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16:00~17:00 | Gate electrode AI Photo(Mask #4) 실습 |
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17:00~18:00 | Summary | 공정실습 Summary |
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12.20. (금) 5일차 | 09:00~10:00 | 공정이론 | 불량분석 이론교육 |
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10:00~11:00 | Electrical test 이론교육 |
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11:00~12:00 | 평가 | 시험평가 |
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12:00~13:00 | 점심식사 | 사업단 제공 | ||
13:00~14:00 | 공정실습 | AI etch & PR strip 실습 |
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14:00~15:00 | AI Anneal 실습 |
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15:00~16:00 | Electrical test 실습(I-V측정) |
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16:00~17:00 | 시청각 | 반도체 후공정 시청각 교육 |
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17:00~17:30 | 수료식 | 총평 및 수료식 |
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※ 상기 일정은 상황에 따라 변경될 수 있습니다.